什么是福建液化三氟化氮？液化三氟化氮有什么用处？
来源：www.dehechem.com 发布时间：2022年10月09日
工业气体品种十分多，其中不乏有一些风险气体，今天小编给大家介绍一种气体-福建液化三氟化氮：
三氟化氮化学式NF，在常温下是一种无色、无臭、性质稳定的气体，是一种强氧化剂。三氟化氮在微电子工业中作为一种优良的等离子蚀刻气体，在离子蚀刻时裂解为活性氟离子，这些氟离子对硅和钨化合物，液化三氟化氮具有优良的蚀刻速率和选择性（对氧化硅和硅），它在蚀刻时，在蚀刻物外表不留任何残留物，是十分良好的清洗剂，同时在芯片制造、高能激光器方面得到了大量的运用。
三氟化氮主要用处是用作氟化氢－氟化气高能化学激光器的氟源，在h2-O2 与F2之间反响能的有效局部（约25%）能够以激光辐射释放出，所 HF-OF激光器是化学激光器中有希望的激光器。三氟化氮是微电子工业中一种优良的等离子蚀刻气体，对硅和氮化硅蚀刻，采用三氟化氮比四氟化碳和四氟化碳与氧气的混合气体有更高的蚀刻速率和选择性，而且对外表无污染，特别是在厚度小于1.5um的集成电路资料的蚀刻中，三氟化氮具有十分优良的蚀刻速率和选择性，在被蚀刻物外表不留任何残留物，同时也是十分良好的清洗剂。随着纳米技术的开展和电子工业大范围的开展技术，它的需求量将日益增加。
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三氟化氮化学式NF，在常温下是一种无色、无臭、性质稳定的气体，是一种强氧化剂。三氟化氮在微电子工业中作为一种优良的等离子蚀刻气体，在离子蚀刻时裂解为活性氟离子，这些氟离子对硅和钨化合物，液化三氟化氮具有优良的蚀刻速率和选择性（对氧化硅和硅），它在蚀刻时，在蚀刻物外表不留任何残留物，是十分良好的清洗剂，同时在芯片制造、高能激光器方面得到了大量的运用。
三氟化氮主要用处是用作氟化氢－氟化气高能化学激光器的氟源，在h2-O2 与F2之间反响能的有效局部（约25%）能够以激光辐射释放出，所 HF-OF激光器是化学激光器中有希望的激光器。三氟化氮是微电子工业中一种优良的等离子蚀刻气体，对硅和氮化硅蚀刻，采用三氟化氮比四氟化碳和四氟化碳与氧气的混合气体有更高的蚀刻速率和选择性，而且对外表无污染，特别是在厚度小于1.5um的集成电路资料的蚀刻中，三氟化氮具有十分优良的蚀刻速率和选择性，在被蚀刻物外表不留任何残留物，同时也是十分良好的清洗剂。随着纳米技术的开展和电子工业大范围的开展技术，它的需求量将日益增加。
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